Peculiarities of electron transport and resistive switching in point contacts on TiSe2, TiSeS, and CuxTiSe2

Автор(и)

  • D. L. Bashlakov B. Verkin Institute for Low Temperature Physics and Engineering of the National Academy of Sciences of Ukraine Kharkiv 61103, Ukraine
  • O. E. Kvitnitskaya B. Verkin Institute for Low Temperature Physics and Engineering of the National Academy of Sciences of Ukraine Kharkiv 61103, Ukraine
  • S. Aswartham Leibniz Institute for Solid State and Materials Research
  • Y. Shemerliuk Leibniz Institute for Solid State and Materials Research, IFW Dresden, Dresden 01069, Germany
  • H. Berger Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, LPMC, CH-1015 Lausanne, Switzerland
  • D. V. Efremov Leibniz Institute for Solid State and Materials Research, IFW Dresden, Dresden 01069, Germany
  • B. Büchner Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, LPMC, CH-1015 Lausanne, Switzerland
  • Yu. G. Naidyuk B. Verkin Institute for Low Temperature Physics and Engineering of the National Academy of Sciences of Ukraine Kharkiv 61103, Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.1063/10.0019694

Ключові слова:

TiSe2, TiTeS, CuxTiSe2, point contacts, resistive switching, ReRAM materials, charge density wave

Анотація

Сполука TiSe2 привернула велику увагу серед халькогенідів перехідних металів через її захоплюючі фізичні властивості, пов’язані з нетиповою поведінкою питомого опору, появою стану хвилі зарядової щільності (CDW), індукованою надпровідністю тощо. Тут ми повідомляємо про відкриття нової властивості TiSe2, а саме: спостереження резистивного перемикання у зміщених напругою точкових контактах (PC) на основі TiSe2 та його похідних, легованих S та Cu (TiSeS, CuxTiSe2). Перемикання відбувається між станом з низьким опором, головним чином «металевого типу», і станом «напівпровідникового типу» з високим опором при прикладанні напруги зміщення (зазвичай < 0,5 В), тоді як зворотне перемикання відбувається шляхом прикладання напруги протилежної полярності (зазвичай < 0,5 В). Різниця в опорі між цими двома станами може досягати двох порядків за кімнатної температури. Походження цього ефекту можна пояснити зміною стехіометрії ядра PC через дрейф/зміщення вакансій Se/Ti під сильним електричним полем. Крім того, продемонстровано, що нагрів, який відбувається в ядрі PC, може сприяти ефекту, який зумовлений електричним полем. Разом з тим не знайдено жодних доказів спектральних особливостей CDW в наших спектрах PC для TiSe2. Спостережене резистивне перемикання дозволяє запропонувати TiSe2 та їхні похідні як перспективні матеріали, наприклад, для розробки енергонезалежної резистивної пам’яті з довільним доступом (ReRAM)

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Downloads

Опубліковано

2023-05-29

Як цитувати

(1)
Bashlakov, D. L. .; Kvitnitskaya, O. E. .; Aswartham, S. .; Shemerliuk, Y. .; Berger, H. .; Efremov, D. V. .; Büchner, B. .; Naidyuk, Y. G. . Peculiarities of Electron Transport and Resistive Switching in Point Contacts on TiSe2, TiSeS, and CuxTiSe2. Fiz. Nizk. Temp. 2023, 49, 916–922.

Номер

Розділ

Статті