On thermal stability of cryovacuum deposited CH4+H2O films

Автор(и)

  • A. Aldiyarov Institute of Experimental and Theoretical Physics, al-Farabi Kazakh National University Almaty, 050040, Kazakhstan
  • D. Sokolov Institute of Experimental and Theoretical Physics, al-Farabi Kazakh National University Almaty, 050040, Kazakhstan
  • A. Akylbayeva Institute of Experimental and Theoretical Physics, al-Farabi Kazakh National University Almaty, 050040, Kazakhstan
  • А. Nurmukan Institute of Experimental and Theoretical Physics, al-Farabi Kazakh National University Almaty, 050040, Kazakhstan
  • N. Tokmoldin Satbayev University, Institute of Physics and Technology, Almaty, 050032, Kazakhstan

DOI:

https://doi.org/10.1063/10.0002156

Ключові слова:

molecular crystals, water-methane films, vibrational spectroscopy, low temperature, methane localization.

Анотація

У той час як стабільні гомогенні стани водних розчинів вуглеводнів зазвичай спостерігаються при високих температурах і тисках, що набагато перевищують критичні значення, які відповідають окремим компонентам, стабільність такої системи може зберігатися при переході в область метастабільних станів при низьких температурах та низьких тисках. Вивчено термічну стійкість водно-метанової суміші, утвореної кріогенним осадженням з газової фази. Отримані тонкі плівки досліджено методом коливальної спектроскопії в інтервалі температур 16–180 К. В процесі термічного відігрівання зразків, поряд з тиском в камері, відстежувалися характерні коливальні C–H моди метану для реєстрації як структурних змін, так і десорбції матеріалу плівки. Отримані результати показують, що при спільному осадженні метану й води молекули метану виявляються як в незв'язаному, так і в захопленому стані. Спостережуване розширення характерної моди коливання С–Н при 3010 см–1 при підвищенні темпера-тури зразка від 16 до 90 К з подальшим звуженням піку при зниженні температури до 16 К вказує на локалізацію молекул метану всередині водної матриці при більш низьких температурах.

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Downloads

Опубліковано

2020-09-21

Як цитувати

(1)
Aldiyarov, A.; Sokolov, D.; Akylbayeva, A.; Nurmukan А.; Tokmoldin, N. On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH4+H2O Films. Fiz. Nizk. Temp. 2020, 46, 1318-1322.

Номер

Розділ

Фізичні властивості кpіокpисталів

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають

<< < 1 2