«Дважды экспоненциальный» рост проводимости, обусловленный взрывной кристаллизацией аморфного слоя ультратонкой холодноосажденной пленки золота
DOI (Low Temperature Physics):
https://doi.org/10.1063/1.4964323%20Ключові слова:
ультратонкие пленки, аморфные металлы, взрывная кристаллизация, холодноосажденные пленки.Анотація
При in situ измерениях зависимости проводимости от номинальной толщины конденсата в узком интервале толщин осаждаемого на подложку металла обнаружен «дважды экспоненциальный» прирост проводимости, обусловленный взрывной кристаллизацией аморфного слоя в растущей ультратонкой холодноосажденной пленке золота. Дальнейшее поведение проводимости может быть описано законом Аррениуса с энергией активации равной кулоновской энергии зарядки растущих металлических кристаллитов, предполагая, что их средний диаметр коррелирует с толщиной конденсируемой металлической пленки.
Downloads
Опубліковано
2016-07-18
Як цитувати
(1)
Е.Ю. Беляев, «Дважды экспоненциальный» рост проводимости, обусловленный взрывной кристаллизацией аморфного слоя ультратонкой холодноосажденной пленки золота, Low Temp. Phys. 42, (2016) [Fiz. Nizk. Temp. 42, 986-993, (2016)] DOI: https://doi.org/10.1063/1.4964323 .
Номер
Розділ
Електронні властивості провідних систем
Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.
