Электронное допирование NbSe2
DOI:
https://doi.org/10.1063/1.3132767Ключові слова:
быстрые электроны, рентгеновская и электронная дифракция, электронная плотность.Анотація
Методами рентгеновской и электронной дифрактометрии исследовано влияние облучения быстрыми электронами на свойства диселенида ниобия гексагональной модификации 2H-NbSe2. Обнаруженные изменения дифрактограмм объясняются перераспределением электронной плотности при облучении, а именно ее увеличением в плоскостях с большой плотностью упаковки - базисных и призматических - {110}, {210}. Появление диффузного рассеяния рентгеновских лучей и электронов при больших дозах облучения связывается с ростом плотности электронной ферми-жидкости.Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.
Downloads
Опубліковано
2009-04-14
Як цитувати
(1)
Еременко, В.; Ибулаев, В.; Сиренко, В.; Шведун, М.; Куликов, Л.; Петрусенко, Ю.; Борисенко, В.; Астахов, А.; Баранков, Д. Электронное допирование NbSe2. Fiz. Nizk. Temp. 2009, 35, 545-548.
Номер
Розділ
Короткі повідомлення