Comparative study on the effect of substrates on electrical properties of tin and chromium thin films

Анотація

У технології тонких плівок матеріал підкладки є одним з параметрів осадження, який визначає фізичні властивості плівок. Таким чином, скло та кварц продовжують залишатися широко використовуваними матеріалами підкладок завдяки їх високочастотним характеристикам, вартості та якості поверхні. Для певних застосувань потрібні різні матеріали підкладок, які забезпечують прийнятний компроміс для конкретної роботи. В якості підкладок для тонких плівок олова та хрому, які отримані методом термічного випаровування у вакуумі, були обрані скло та кварц. Ґрунтуючись на теоріях Фукса–Зондгаймера та Маядаса–Шатцкеса проведено порівняльне дослідження електричних властивостей плівок хрому. Численні фізичні властивості, зокрема, питомий опір нескінченно товстої плівки, коефіцієнт прилипання, середній вміст вільних електронів провідності тощо, можуть бути визначені за даними залежності питомого опору від товщини плівки.