Growth and crystal structure of CdTe1–xSex (x ≥ 0.75) thin films prepared by the method of high-frequency magnetron sputtering
DOI (Low Temperature Physics):
https://doi.org/10.1063/10.0023888Ключові слова:
тонка плівка, твердий розчин заміщення, кристалічна структура, оптичне пропускання, заборонена зонаАнотація
Тонкі плівки CdTe1–xSex (x = 0.75 та 0.95) були осаджені на кварцові підкладки методом високочастотного магнетрон-ного розпилення. Елементний аналіз та уточнення кристалічної структури досліджено за результатами рентгенфлуоресцентного аналізу та рентгенівської дифракції. Тонкі плівки CdTe1–xSex кристалізуються в гексагональній структурі [тип структури — ZnO, просторова група P63mc (№ 186)]. Параметри елементарної комірки зменшуються зі збільшенням вмісту Se в тонких плівках CdTe1–xSex. Значення оптичної забороненої зони для CdTe0.25Se0.75 та CdTe0.05Se0.95 оцінювали за допомогою коор-динат Тауца та положення максимуму першої похідної спек-трів пропускання dT/dλ.
Downloads
Опубліковано
2024-01-21
Як цитувати
(1)
A. I. Kashuba and B. Andriyevsky, Growth and crystal structure of CdTe1–xSex (x ≥ 0.75) thin films prepared by the method of high-frequency magnetron sputtering, Low Temp. Phys. 50, 29–33, (2024) [Fiz. Nyzk. Temp. 50, 32–36, (2024)] DOI: https://doi.org/10.1063/10.0023888.
Номер
Розділ
Статті
Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.