Умови резонансного тунелювання крізь двобар’єрні структури в графені

Автор(и)

  • В. Є. Cахнюк Волинський національний університет ім. Лесі Українки, Луцьк, 43025, Україна
  • А. М. Шутовський Волинський національний університет ім. Лесі Українки, Луцьк, 43025, Україна
  • С. А. Федосов Волинський національний університет ім. Лесі Українки, Луцьк, 43025, Україна
  • О. В. Замуруєва Волинський національний університет ім. Лесі Українки, Луцьк, 43025, Україна

Ключові слова:

графен, потенціальний бар’єр, резонансне тунелювання

Анотація

Досліджено кляйнівське тунелювання діраківських ферміонів крізь симетричний подвійний потенціальний бар’єр прямокутної форми в графені. Для залежності коефіцієнта проходження електронів від кута падіння на межу бар’єра отримано нову аналітичну формулу, на основі якої знайдено умови для кутів падіння зі 100% ймовірністю тунелювання електронів. Показано, що у випадку подвійного потенціального бар’єра маємо три умови резонансного тунелювання, дві з яких аналогічні цим умовам для одного бар’єра, а третя відображає наявність другого бар’єра.

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Downloads

Опубліковано

2022-08-25

Як цитувати

(1)
Cахнюк В. Є. .; Шутовський, А. М. .; Федосов, С. А. .; Замуруєва, . О. В. . Умови резонансного тунелювання крізь двобар’єрні структури в графені. ФНТ 2022, 48, 913–917.

Номер

Розділ

Квантові ефекти в напівпровідниках та діелектриках