Особенности температурных зависимостей захваченного магнитного потока в керамиках Y-ВТСП

Анотація

Изучены температурные зависимости захваченного магнитного поля (ЗМП) H_t (T в керамических системах Y-ВТСП. Для захвата после охлаждения в поле зависимости H_t (T совпадают c H_t (T_t ) (T_t - температуры захвата): H_t монотонно уменьшается с ростом температуры, а в слабых полях быстро выходит на насыщение при понижении T_t. В случае захвата импульсом магнитного поля после охлаждения в нулевом поле зависимости H_t (T_t )имеют максимум, а H_t монотонно уменьшается с ростом T, причем скорость этого пpоцесса увеличивается при уменьшении инициирующего поля H, а температура исчезновения ЗМП понижается при уменьшении T_t и H. Проведено обсуждение полученных результатов и показано, что наблюдаемые особенности температурных зависимостей захваченного магнитного потока в Y-ВТСП не находят объяснения в рамках модели Бина, но удовлетвоpительно описываются моделью захвата магнитного потока в сверхпроводящих контурах.