Нижние критические поля текстурированных высокотемпературных сверхпроводников.
III. Экспериментальное изучение анизотропии полей Hc1 ВТСП YBa2Cu3O7-dDOI (Low Temperature Physics):
https://doi.org/10.1063/1.593870Ключові слова:
Анотація
Изучена зависимость критических токов Ic текстурированных образцов ВТСП YBa2Cu3O7-d (T = 77,3 К) от напряженности предварительно приложенного внешнего магнитного поля Hext при различных углах между направлением поля и исследуемым образцом. На основе полученной угловой зависимости Ic(H) с помощью развитой в работе методики определены значения нижних критических полей Hc1 ВТСП YBa2Cu3O7-d в направлении главной оси орторомбической решетки Hc1ab = 89 Э и в перпендикуляром направлении Hc1c = 383 Э; отношение эффективных масс электрона mc/mab=18,5.
Downloads
Опубліковано
2000-02-10
Як цитувати
(1)
В. А. Финкель and В. В. Деревянко,
Нижние критические поля текстурированных высокотемпературных сверхпроводников.
III. Экспериментальное изучение анизотропии полей Hc1 ВТСП YBa2Cu3O7-d, Low Temp. Phys. 26, (2000) [Fiz. Nizk. Temp. 26, 128-134, (2000)] DOI: https://doi.org/10.1063/1.593870.Номер
Розділ
Надпровідність, зокрема високотемпературна
Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.