ALDIYAROV, A.; SOKOLOV, D.; AKYLBAYEVA, A.; Nurmukan А.; TOKMOLDIN, N. On thermal stability of cryovacuum deposited CH₄+H₂O films. ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР, Харків, Україна, v. 46, n. 11, p. 1318–1322, 2020. DOI: 10.1063/10.0002156. Disponível em: https://fnt.ilt.kharkov.ua/index.php/fnt/article/view/f46-1318e. Acesso em: 23 лис. 2024.