Aldiyarov, A., Sokolov, D., Akylbayeva, A., Nurmukan А. і Tokmoldin, N. 2020. On thermal stability of cryovacuum deposited CH₄+H₂O films. ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР. 46, 11 (Вер 2020), 1318–1322. DOI:https://doi.org/10.1063/10.0002156.